光學鍍膜過程對溫度控制要求較高，尤其是在多層干涉膜系統(tǒng)或高折射率材料沉積中，溫控精度對膜層光學性能與附著力具有直接影響。

在東莞光學鍍膜設備中，常見溫控系統(tǒng)包括加熱靶材溫控、電阻絲控溫、紅外感應測溫與反饋閉環(huán)控制。標準設備溫控精度一般控制在±2℃以內，對于應用需求，可實現(xiàn)±1℃甚至±0.5℃的準確調節(jié)。整個真空腔體的溫度分布均勻性也是控制內容。

為了保持鍍層光學性能一致性，部分設備支持多點測溫及分區(qū)加熱功能，確保膜層沉積過程中基材受熱穩(wěn)定。此外，系統(tǒng)需配套熱保護機制，以避免突發(fā)溫升引發(fā)膜層開裂或基材變形。

東莞地區(qū)的光學鍍膜生產多數服務于鏡頭、顯示面板、傳感器等高精度行業(yè)，因此設備溫控系統(tǒng)常搭載實時記錄與報警裝置，以便過程可控可追溯，保障產品一致性。